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汎銓科技


半導體材料分析新品項 上市


  兩年前,當汎銓研發材料分析專用的ALD原子層沉積技術時,令市場驚艷不已,此技術能在晶片樣品上形成保護的「盔甲」,避免人為缺陷。由於能呈現真實的材料微結構與成分,在FA╱MA分析上展現絕對優勢,大量獲得使用。
  放眼市場,專用於材料分析樣品製備的ALD原子層沉積技術,至今仍是領先全球,使得汎銓與客戶維持緊密的黏著度。董事長柳紀綸認為,汎銓除了擁有獨步業界的完整分析工法,由公司研發團隊自力完成ALD設備研發及製備樣品技術,更具有非凡意義。
  許多半導體大廠積極投入製程技術與設備開發,提升自主性,更能切合自身的需求,也可避免機密外洩的風險。談到汎銓為何自行開發設備?柳紀綸說,「汎銓在先進製程的材料分析走在業界前端,設備廠跟不上,關鍵性的材料分析設備只好自行研發。」
  過去一年多,汎銓為服務客戶,長期犧牲「ALD產能成本」,近期針對市場供需情況將有所調整,同時推出ALD相關的材料分析新品項。汎銓強調,過去全部案件皆委案汎銓的忠誠客戶不受影響,仍能以舊品項價格,享有ALD樣品製備技術服務;反之,若是非長期合作、遊走各分析公司的客戶,分析服務將適用於新品項報價。<摘錄經濟>